Patentgesetz, Gebrauchsmustergesetz | Autor, ISBN und Ausgabedetails
28.08.2026
Lesedauer: 3 min
Alle Kerninfos zu Patentgesetz, Gebrauchsmustergesetz von Georg Benkard, Claus Dietrich Asendorf auf einen Blick: Inhalt und Buchdetails. Öffne die Seite für einen schnellen Faktencheck zum Buch.

Patentgesetz, Gebrauchsmustergesetz - Buchbeschreibung, Ausstattung und ISBN
Patentgesetz, Gebrauchsmustergesetz ist ein Werk von Georg Benkard, Claus Dietrich Asendorf, das innerhalb der Kategorie Sachbuch eingeordnet wird und bereits durch seine klare thematische Ausrichtung überzeugt. Die Ausgabe erschien am 2006 bei C.H. Beck und ist dem Verlagsstandort München zugeordnet.
Warum Patentgesetz, Gebrauchsmustergesetz relevant sein kann
Dass Patentgesetz, Gebrauchsmustergesetz in Deutsch erschienen ist, erleichtert die gezielte Auswahl für sprachspezifische Recherchen. Durch die Zuordnung zur Kategorie Sachbuch wird Patentgesetz, Gebrauchsmustergesetz auch für thematische Recherchen besonders relevant. Für Recherchen nach Veröffentlichungszeitraum ist Patentgesetz, Gebrauchsmustergesetz mit dem Datum 2006 eindeutig zuordenbar. Patentgesetz, Gebrauchsmustergesetz ist besonders für Leserinnen und Leser interessant, die sich gezielt mit Veröffentlichungen von Georg Benkard, Claus Dietrich Asendorf beschäftigen möchten. Der Verlag C.H. Beck und der Verlagsort München liefern zusätzliche Orientierung bei der Einordnung dieser Ausgabe.
Inhalte, Themen und Relevanz
Ergänzend helfen die hinterlegten Schlagwörter dabei, Patentgesetz, Gebrauchsmustergesetz thematisch schneller einzuordnen: Design protection, Patent laws and legislation, Patent lawyers
Edition und bibliografische Einordnung
Verlag, Ort und Datum - C.H. Beck, München und 2006 - bilden zusammen einen wichtigen bibliografischen Kern dieses Datensatzes. Auch externe Referenzen sind vorhanden: Die Work-ID lautet OL19482396W, die zugehörigen Editions-IDs sind OL31787612M, OL3829583M.
Die zentralen Metadaten zu Patentgesetz, Gebrauchsmustergesetz
- Primäre Kategorie: Sachbuch
- Publiziert bei: C.H. Beck
- Titel: Patentgesetz, Gebrauchsmustergesetz
- Verfasst von: Georg Benkard, Claus Dietrich Asendorf
- Thematische Tags: Design protection, Patent laws and legislation, Patent lawyers
- Veröffentlicht am: 2006
- ISBN-10: 3406539548
- Sprache: Deutsch
- Verlagsort: München
- Seitenzahl: 1954
- Externe Editionsreferenzen: OL31787612M, OL3829583M
- Open-Library-Work-ID: OL19482396W
Warum sich Patentgesetz, Gebrauchsmustergesetz gut einordnen lässt
Durch die Kombination aus Titel, Autorenschaft, Kategorie und Schlagwörtern - also Patentgesetz, Gebrauchsmustergesetz, Georg Benkard, Claus Dietrich Asendorf, Sachbuch und Design protection, Patent laws and legislation, Patent lawyers - ist der Datensatz sowohl für Suchmaschinen als auch für Nutzerinnen und Nutzer sehr gut interpretierbar.
FAQ zu Patentgesetz, Gebrauchsmustergesetz
Wie lässt sich Patentgesetz, Gebrauchsmustergesetz thematisch einordnen?
Die Ausgabe wird dem Bereich Sachbuch zugeordnet und ist damit für thematisch fokussierte Recherchen gut geeignet.
Welche Sprache und Schlagwörter sind hinterlegt?
Verzeichnet sind die Sprache Deutsch sowie die Tags Design protection, Patent laws and legislation, Patent lawyers, die die thematische Zuordnung erleichtern.
Wofür sind die Open-Library-IDs hilfreich?
Mit OL19482396W und OL31787612M, OL3829583M lässt sich das Werk auch in externen bibliografischen Zusammenhängen besser verknüpfen.
Wie ist die Ausgabe verlegerisch einzuordnen?
Bibliografisch wird die Ausgabe über C.H. Beck, München und das Datum 2006 beschrieben.
Externe Links
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